薄膜的化學性能

  薄膜的化學性能亦即薄膜的化學穩定性氟素離型膜,主要系指抗水、水燕氣和各種化學試劑的能力。化學穩定性良好的薄膜多系周期表。

  由於在使用中薄膜不可能與上述破壞性介質相接觸,因此氧化膜在酸堿溶液中的穩定性僅在零件制造過程中(如零件清洗、艘銀或鍍鋁前的准備工作以及鍺和硅零件的拋光)才有意義。在使用中各種元素氧化物薄膜易受到堿性水蒸氣和凝聚的水滴破壞,特別是在溫度急劇變化的情況下尤為如此。氧化膜對水和水蒸氣的穩定性在很大程度上取決於其吸附性能和孔晾度,只有GeO=膜由於氧化物本身的溶解而被破壞,一些對水不活潑的薄膜之所以遭到破壞是由於水蒸氣滲透到薄膠孔隙內而產生的膨脹作用,並使薄膜與基底表面的結合遭到破壞,這種膨脹的薄膜易受到機械損傷。

  鍍在易溶解的材料表面上的薄膜最易遭到破壞,如在非硅酸鹽玻璃或吸濕品體上鍍膜是得不到穩定薄膜的。在穩定性很好的硅酸鹽玻璃上可以得到非常牢固的薄膜,即使在很高的涅度下薄膜也能長期保持原有的性能。有時TiO2+SiO:膜在90*的相對濕度下(無凝聚的水蒸氣),在20℃時保持60天,在50℃時保持52天均未發生變化。

  如果在玻璃表面上有凝聚的水燕氣便會在薄膜上產生小點、干後的水痕和不同顏色的斑點。上述過程如果重復下去會使零件的外觀變壞並降低玻玻的透明度,特別是對增透膜尤為如此。

  在高溫高濕條件下使用的光學儀器,其光學零件表面可能受到凝聚水分及空氣中存在的抓化物、灰塵等的破結束帶壞。光學儀器和一些其他元件可能在各種氣候下使用,如在熱帶和海濱附近等。因此,對光學琴件的保護這個問題是值得自動束帶機用束帶重視的,可以利用各種方法來解決這個問題,這裡最重要的是正確選擇鍍膜的方法。
 

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